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不銹鋼縫隙腐蝕檢測(cè)公司

發(fā)布時(shí)間:2021-08-13 訪問量:1048次 來(lái)源:隱石檢測(cè)
不銹鋼縫隙腐蝕檢測(cè)公司,采用可使金屬的腐蝕電位處在恒電位陽(yáng)極極化曲線特定區(qū)間的各種試驗(yàn)溶液,利用金屬的晶粒和晶界在該電位區(qū)間腐蝕電流的顯著差異加速顯示晶間腐蝕。通過(guò)對(duì)材料的金屬腐蝕檢測(cè),能快速了解材料的化學(xué)成分、熱處理和加工工藝是否合理 。

不銹鋼縫隙腐蝕檢測(cè)公司

由于鉻在鐵素體中的遷移速度遠(yuǎn)快于奧氏體不銹鋼,即使在高溫下迅速冷卻,也會(huì)析出碳化物,造成鉻貧區(qū)和晶間腐蝕。而在700 ~ 800℃退火時(shí),亞穩(wěn)相cr23c3轉(zhuǎn)變?yōu)榉€(wěn)定相Cr23C6,使鉻分布趨于均勻,消除了晶間腐蝕的傾向。


晶間腐蝕:金屬材料在特定腐蝕介質(zhì)中沿晶界發(fā)生的局部選擇性腐蝕。晶界是不同晶粒之間的邊界。由于晶粒有不同的取向,原子在結(jié)處的排列必須逐漸從一個(gè)取向轉(zhuǎn)變?yōu)榱硪粋€(gè)取向。因此,晶界實(shí)際上是一種“表面”不完整的結(jié)構(gòu)缺陷。由于晶格畸變的增加,晶界處原子的平均能量高于晶內(nèi)。較高的能量稱為晶界能。純金屬晶界在腐蝕介質(zhì)中的腐蝕速率比晶體的腐蝕速率快,這是因?yàn)榫Ы绲哪芰扛撸犹幱诓环€(wěn)定狀態(tài)。


根據(jù)稀釋理論,晶間腐蝕是由于組件的稀釋晶界由于容易沉淀的第二階段的晶界(1)奧氏體不銹鋼,鉻缺乏是由于晶界Cr23C6階段的降水,(2)對(duì)于Ni Mo合金,ni7mo5在晶界處析出,鉬在晶界處含量較低;(3)對(duì)于銅鋁合金,CuAl2在晶界處析出,導(dǎo)致晶界處銅含量較低。


鉻、鎳、鉬、硅:Cr、Mo含量的增加會(huì)降低C的活性,降低晶體腐蝕的傾向;Ni、Si等不形成碳化物的元素會(huì)提高C的活性,降低C在奧氏體中的溶解度,促進(jìn)碳化物的析出。


不銹鋼縫隙腐蝕檢測(cè)公司

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