P. Si、B等雜質(zhì)元素沿晶界偏析引起的非敏化晶間腐蝕只是晶界與晶體間形成化學濃度差而引起的簡單電化學腐蝕過程，或者是偏析導致的晶界耐蝕性下降，或者還有其他因素，需要進一步探討。

晶間腐蝕:金屬材料在特定腐蝕介質(zhì)中沿晶界發(fā)生的局部選擇性腐蝕。晶界是不同晶粒之間的邊界。由于晶粒有不同的取向，原子在結(jié)處的排列必須逐漸從一個取向轉(zhuǎn)變?yōu)榱硪粋€取向。因此，晶界實際上是一種“表面”不完整的結(jié)構(gòu)缺陷。由于晶格畸變的增加，晶界處原子的平均能量高于晶內(nèi)。較高的能量稱為晶界能。純金屬晶界在腐蝕介質(zhì)中的腐蝕速率比晶體的腐蝕速率快，這是因為晶界的能量高，原子處于不穩(wěn)定狀態(tài)。

非敏化晶間腐蝕主要發(fā)生在含Cr6 +的HNO3中。除65% HNO3外，最可能出現(xiàn)在濃HNO3中，特別是發(fā)煙硝酸中。另外，在我國采用二氧化碳汽提法生產(chǎn)尿素的條件下，在高溫高壓氨基甲酸銨溶液中，在液相與氣液相交點處，發(fā)現(xiàn)了尿素級和非尿素級00Cr17Ni14Mo2和00cr25ni22mo2n和Fe Ni基耐腐蝕合金00cr20ni35mo2cu3nb (carpenter 20cd-3)的非敏化晶間腐蝕。在氣相中。

在某些合金介質(zhì)體系中，常發(fā)生嚴重的晶間腐蝕。例如，奧氏體不銹鋼在弱氧化介質(zhì)(如曝氣海水)或強氧化介質(zhì)(如濃硝酸)等特定腐蝕介質(zhì)中可能產(chǎn)生嚴重的晶間腐蝕。